Studio Radiance - Base de maquillaje NW25

Lo más importante

• Para quién es: Ideal para todo tipo de pieles, incluso sensibles.
• Una base alimentada por suero que fusiona la experiencia de los tonos de piel con la ciencia del cuidado de la piel. Una base hidratante edificable y ligera de 24 horas que suaviza la textura, unifica el tono y difumina el aspecto de los poros
• +209% de hidratación instantánea* para una piel más voluminosa, más suave y radiante
• Resistente al agua, sudor, humedad y transferencia
• Dermatológicamente probado y no comedogénico

Descripción

Conoce la base alimentada por suero que fusiona nuestra experiencia en tonos de piel con la ciencia del cuidado de la piel. Esta nueva innovación ofrece +209% de hidratación para una piel más voluminosa, más suave y radiante. Nuestra innovadora base también ofrece una piel más hidratada y de aspecto más saludable con el tiempo con un brillo durante todo el día. Está alimentado por 33 ingredientes para el cuidado de la piel, incluida una solución de ácido hialurónico al 10%, que bloquea la hidratación debajo de la superficie de la piel. También está infundido con un cóctel de potentes superalimentos que cuidan la piel, incluidos aceites de oliva y jojoba para acondicionar la piel para un brillo más saludable, además de antioxidantes para proteger la piel de la contaminación y la luz azul. La base Studio Radiance Serum-Powered cuenta con hidratación las 24 horas y una cobertura media construible y suavizante, que nivela instantáneamente tu cutis. Esta base ligera también difumina la apariencia de poros, enrojecimiento de la piel, manchas oscuras y líneas finas secas. Logra un brillo personalizado con la mezcla de brillo curada por artistas de esta base, hecha de partículas nacaradas de plata y oro específicamente diseñadas para complementar matices únicos de piel clara y rica. Disponible en 56 tonos naturalmente radiantes para todos. La botella de base de vidrio reciclable fue fabricada pensando en la sostenibilidad, con una tapa hecha con 30% de PCR.